1. 简介
光刻掩模版（Mask Reticle），是微纳加工技术中光刻工艺中使用的图形母版。由不透光的遮光薄膜和透光的图形组成。主要应用在如集成电路，印刷电路板，平板显示器，微纳光学元件等。
我司的掩模板加工有两种方式：一为激光直写；另一为电子束直写。
2. 技术参数
联系电话：18180953910 18190816071
邮箱：sales@shellrsb.com
公司地址：成都市双流区物联一路233号
